Wer einen Schal sucht, der wirklich kuschelig wird – einen, der sich satt und voll anfühlt, der Wärme speichert und auch noch beidseitig gleich aussieht –, landet früher oder später beim Patentmuster. Es ist eines der bekanntesten Strukturmuster im Stricken. Voluminös, weich, mit einem klaren dreidimensionalen Eindruck. Im ersten Moment wirkt es kompliziert, weil mit „Maschen darunter“ gestrickt wird – aber wer das Prinzip einmal verstanden hat, strickt es schneller, als die meisten erwarten.
Was ist das Patentmuster?
Das Patentmuster basiert auf dem Mitstricken der Masche aus der Reihe darunter. Statt in die aktuelle Masche auf der Nadel einzustechen, sticht man eine Reihe tiefer ein. Dadurch entstehen voluminöse, kanalartige Strukturen, die wie tiefe Rippen wirken – mit deutlich mehr Tiefe als ein klassisches 1×1- oder 2×2-Rippenmuster.
Es gibt mehrere Patent-Varianten: einfaches Patent, halbes Patent, Vollpatent, falsches Patent. Die Unterschiede liegen im Detail – allen gemeinsam ist die voluminöse, weiche Optik.
So strickst du Vollpatent (das klassische Patentmuster)
In Reihen, ungerade Maschenzahl + 2 Randmaschen:
Vorbereitungsreihe: Anschlag, dann eine ganz normale Reihe mit 1 rechts, 1 links stricken.
Reihe 1: Faden vor der Masche, Masche links abheben (also auf die rechte Nadel nehmen, ohne sie zu stricken), 1 Masche rechts in die darunterliegende Masche stricken. Wiederholen bis zum Ende.
Reihe 2: 1 Masche rechts in die darunterliegende Masche stricken, Faden vor der Masche, Masche links abheben. Wiederholen bis zum Ende.
Reihe 1 und 2 wiederholen.
Klingt verwirrend beim Lesen – ist beim Tun erstaunlich rhythmisch. Nach drei, vier Reihen läuft die Bewegung automatisch.
Das halbe Patent – die einsteigerfreundliche Variante
Das halbe Patent ist eine vereinfachte Form des Patentmusters und sieht nur auf einer Seite wie Patent aus. Auf der Rückseite ist die Optik anders. Trotzdem ist es ein hervorragendes Einstiegsmuster.
So geht’s:
Vorbereitungsreihe: Anschlag, dann eine Reihe mit 1 rechts, 1 links.
Reihe 1 (Hinreihe): 1 Masche rechts in die darunterliegende Masche stricken, 1 Masche links, wiederholen.
Reihe 2 (Rückreihe): Alle Maschen so stricken, wie sie erscheinen.
Reihe 1 und 2 wiederholen.
Das halbe Patent ist deutlich schneller zu lernen als Vollpatent und gibt schon ein sehr voluminöses Ergebnis. Für die meisten Schalprojekte reicht es absolut.
Falsches Patent – die schnelle Lösung
Wenn dir auch das halbe Patent zu kompliziert erscheint: Mit dem falschen Patent (siehe unseren Artikel über Rippenmuster) bekommst du eine Patent-ähnliche Optik mit deutlich einfacherer Technik. Volumen ähnlich, Aufwand minimal.
Was macht Patent so besonders?
Volumen. Ein Patentmusterschal ist deutlich dicker und kuscheliger als der gleiche Schal in glatt rechts. Das Garn „verbraucht“ sich anders – das Stück wirkt voller.
Wärmespeicher. Durch das voluminöse Maschenbild speichert Patent mehr Luft – und Luft ist der wichtigste Wärmedämmer. Patentmuster-Schals sind im Winter besonders effektiv.
Beidseitig schön (bei Vollpatent). Vollpatent sieht auf beiden Seiten identisch aus – ein massiver Vorteil bei Schals, die sich beim Tragen umschlagen.
Edler Look. Der dreidimensionale Eindruck wirkt hochwertig. Schals, Mützen und ganze Pullover aus Patentmuster haben einen sehr eigenen Charakter.
Was du wissen musst
1. Hoher Garnverbrauch. Patentmuster verbraucht deutlich mehr Garn als glatt rechts oder normale Rippen – meist 30 – 50 % mehr für das gleiche Stück. Das musst du bei der Garnplanung einberechnen.
2. Weniger seitliche Elastizität. Patentmuster ist nicht so elastisch wie 1×1-Rippen. Für Pulloverbündchen ist es daher selten geeignet – dort lieber Rippen.
3. Längt sich beim Tragen. Das voluminöse Maschenbild zieht sich beim Tragen unter dem eigenen Gewicht etwas in die Länge. Bei Pullovern und Cardigans daher etwas kürzer planen.
4. Wirkt dicker als gestrickt. Maschenproben sind beim Patentmuster besonders wichtig – das Maschenbild verzerrt die normale Berechnung deutlich.
Wofür eignet sich Patentmuster?
- Schals und Loops – die Königsdisziplin des Patentmusters. Volumen, Wärme, beidseitig schön.
- Mützen – besonders Beanies und Slouchies.
- Cardigans und voluminöse Pullover – voller Look, lässig.
- Pulswärmer und Stulpen.
- Decken – kuschelig, aber Achtung: hoher Garnverbrauch.
Weniger geeignet:
- Sommerstücke (zu warm).
- Eng anliegende Pullover (Volumen wirkt voluminös auch am Körper).
- Bündchen (zu wenig Elastizität).
Häufige Fehler
Falsche Masche tiefer abgegriffen. Wer in der falschen Reihe einsticht, baut sich Verzwirbelungen ein. Lösung: Beim Stricken bewusst die „Masche darunter“ suchen – das ist die kleine, etwas hängende Schlinge unterhalb der aktuellen Masche.
Vorbereitungsreihe vergessen. Patentmuster braucht eine Vorbereitungsreihe in 1×1-Rippen, sonst hängt das Muster oben in der Luft.
Falsches Garn gewählt. Patentmuster braucht griffiges, leicht elastisches Garn – Wolle ideal, Acryl-Wolle-Mischungen gehen auch. Reine Baumwolle ist weniger ideal: Sie hat kaum Memory-Effekt, das Stück hängt noch stärker als bei elastischen Garnen.
Spannung zu locker. Ein lockeres Patentmuster wirkt schlampig. Bewusst etwas fester arbeiten als bei glatt rechts.
Zum Schluss
Patentmuster ist nicht das schnellste Muster – aber eines der wirkungsvollsten. Wer einen Winterschal oder eine voluminöse Mütze stricken will, bekommt mit Patentmuster den größten Effekt im Verhältnis zur Technik. Schon das halbe Patent reicht für hervorragende Ergebnisse. Und wer sich am Vollpatent versucht, hat ein Premium-Muster im Repertoire, das auf beiden Seiten makellos aussieht – etwas, das nur wenige Strickmuster wirklich liefern.
